真空回火爐的爐溫控制系統主要由可控硅觸發勵磁設備、單片機迷糊控制器、熱電偶傳感器、磁性調壓器和記錄儀等構成，這些與被控目標(真空加熱室內鉬絲加熱器)一同構成直接數字控制(ddc)系統，整個控制構成了一個閉環微調系統。

　　爐恒溫區內裝有測溫熱電偶，前端蓋配有查詢孔，后端蓋帶微調屏，加熱室體上，旁邊面均開有通風孔，冷卻工件時起導流作用。加熱室由鉬制材料、不銹鋼、陶瓷及硅酸鋁纖維氈等構成，加熱器由多股鉬絲捆成一束構成并沿爐體軸線方向及筆直方向均勻分布。

　　真空回火爐單片機依據設定技術曲線與檢測信號比照求得誤差后，由迷糊控制算法進行迷糊推理，然后宣布控制信號，經過可控硅觸發設備控制可控硅的導通角，然后控制其輸出電壓，此交流可調電壓再經二極管整流變為直流電壓對磁性調壓器進行勵磁控制，以控制磁性調壓器的輸出功率，功率連續可調，選用電阻加熱，到達控制溫度的意圖。

　　真空回火爐便是經過把材料或零件在真空狀態下按工藝規程加熱、冷卻來達到預期性能的一種處理辦法。真空釬焊即在真空狀態下，把一組焊接件加熱到填充金屬熔點溫度以上，但低于基體金屬熔點溫度，借助于填充金屬對基體金屬的濕潤和活動構成焊縫的一種焊接工藝。

　?。ㄢF焊溫度因材料不同而異）真空燒結即在真空狀態下，把金屬粉末制品加熱，使相鄰金屬粉末晶粒經過粘著和擴散作用而燒結成零件的一種辦法。